制作PFM全冠时，金属基底表面氧化膜厚度最佳值为
A．0.2～2μm
B．5～10μm
C．15～20μm
D．25～30μm
E．30μm以上
患者，上颌中切牙近中切角缺损，咬合紧，采用PFM全冠修复时，其非贵金属基底冠厚度最低极限值为A．0.1mmB．0.2mmC．0.3mmD．0.4mmE．0.5mm
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制作烤瓷熔附金属全冠底冠时，金属基底表面氧化膜厚度最佳值为A．0.2～2μmB．5～10μmC．15～20μmD．25～30μmE．30μm
技师制作贵金属烤瓷全冠，其金属基底冠打磨完成喷砂粗化时应选用A．50～100μm氧化铝砂B．35～50μm氧化铝砂C．50～100μm石英砂D．35～50μm石英砂E．150～200μm氧化铝砂
制作PFM全冠时，金属基底表面氧化膜厚度最佳值为A．0.2～2μamB．5～10μmC．15～20μmD．25～30μmE．30μm以上
PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A．非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B．贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C．巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D．非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同E．理想的氧化膜厚度为0.2～2μm
制作PFM全冠时，金属基底表面氧化膜厚度最佳值为（）。A、0.2～2μmB、5～10μmC、15～20μmD、25～30μmE、30μm以上
金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度，因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是（）。A、非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B、贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C、非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D、非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同E、理想的氧化膜厚度为0.2～2μm
