简述微电子技术的发展历程、工艺技术和发展趋势。

题目

简述微电子技术的发展历程、工艺技术和发展趋势。

参考答案和解析
正确答案: 发展历程:微电子技术是指以研究、开发和生产以集成电路为核心的电子基础元器件的技术。
1947年美国的贝尔实验室制成第一个晶体管,可以说是集成电路的发端。1958年美国科学家用硅材料制成含电阻、电容的集成电路。70年代后发展成大规模集成电路,80年代制成了集成度N>10万的超大规模集成电路。
微电子工艺技术主要包括:氧化技术(在1000-1100度的高温下,硅单晶片在氧气中表面被氧化,形成与硅片粘附得很牢的二氧化硅保护层,它既是很好的钝化膜,也是很好的绝缘膜);二是光刻技术(包括照相制版、曝光显影、化学腐蚀等步骤),即采用紫外光在与硅片粘附的二氧化硅保护膜上刻出许多窗口,形成器件的图形。(这里最关键的是,二氧化硅很容易溶于氢氟酸而露出下面的硅,而曝光后的光刻胶却能抵抗氢氟酸的浸腐蚀);三是洁净技术(集成电路工艺技术极为精细,工艺操作必须在超洁净的环境中进行,需要设计专门的洁净室和洁净流水线)。
微电子技术发展趋势是集成化、微型化、数字化、系统化和智能化。