电离室自动曝光系统一般将电离室置于
A.人体前
B.暗盒后
C.球管前
D.人与滤线栅间
E.滤线栅与暗盒间
关于电离室自动曝光控制叙述错误的是A.利用气体的电离效应B.X线强度大时，电离电流大C.X线强度大时，曝光时间短D.电容充电电流与X线曝光量成反比E.电离电流小时，需要的曝光时间长
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常规自动曝光摄影用的探测器是A.机械式B.电子式C.数字式D.电离室式E.闪烁晶体
电离室自动曝光控时利用了A、光电效应B、气体电离C、计时器定时D、康普顿效应E、呼吸同步
自动曝光控制的电离室利用了X线的A.穿透作用B.荧光作用C.生物作用D.电离作用E.感光效应
自动曝光控制，电离室放置的正确位置是A．球管窗口处B．遮线器内部C．肢体与滤线栅之间D．滤线栅与暗盒之间E．胶片暗盒的背面
常规自动曝光摄影用的探测器为A．硒晶硅B．电离室式C．光电计式D．多丝正比室E．闪烁晶体
关于自动曝光量控制(AEC)的叙述，错误的是A．被照体很薄时，AEC也可立即切断X线B．探测器有电离室式、半导体、荧光体三种C．AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关D．探测器置于屏胶体系之前还是之后，效果不一样E．探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择
