一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
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一患者上颁局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A.取下腭杆B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.不做处理,让患者将义齿戴走D.腭杆组织面缓冲E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A.不做处理,让患者将义齿戴走B.腭杆组织面加自凝树脂重衬C.腭杆组织面缓冲D.取下腭杆E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是( )。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是A.腭杆组织面缓冲 B.取下腭杆 C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆 D.不做处理,让患者把义齿戴走 E.腭杆组织面加自凝树脂重衬
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是()A、不做处理,让患者将义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是()A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆